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光刻技術(shù)（photolithography）是一種圖形復(fù)印技術(shù)，是指在光照作用下，借助光致抗蝕劑（又名光刻膠）將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到基片上的技術(shù)。
光刻能力：利用電子束光刻、步進式光刻、接觸式紫外光刻，多種技術(shù)相結(jié)合圖形最小線寬可達8nm。可制作大于8nm線寬的任何復(fù)雜圖形。